マスク用電子ビーム描画装置の最新動向

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第62回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 11p-B3-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.1.0_241

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

マスク用電子ビーム描画装置の最新動向

*竹越秀和, 上久保貴司, 吉武俊介, 斎藤賢一

著者情報

キーワード: 11p-B3-4, シンポジウム, 最先端の電子・集束イオンビーム装置技術, マスク用電子ビーム描画装置, ニューフレアテクノロジー, EBM-9000

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