高信頼性ULSI-Cu配線用PVD-Co(W)膜の特性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第62回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 11a-A29-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.1.0_2822

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

高信頼性ULSI-Cu配線用PVD-Co(W)膜の特性

*百瀬健, 冨田皓太, 角田隆明, 中川隆史, 霜垣幸浩

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キーワード: 11a-A29-1, 半導体, Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術, 配線/プロセス/材料/バリア導電膜, Cu配線, Co(W), 物理気相成長

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