Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/InAlN界面特性のプロセス依存性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第62回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 13p-P17-18

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.1.0_3065

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

Al₂O₃/InAlN界面特性のプロセス依存性

*千葉勝仁, 赤澤正道

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キーワード: 13p-P17-18, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, III-V族半導体各種デバイス，プロセス技術・評価, InAlN, Al2O3

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