低界面再結合速度を実現するCat-CVD SiN<sub>x</sub>/a-Si積層保護膜の光学特性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第62回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 11a-C2-10

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.1.0_3561

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

低界面再結合速度を実現するCat-CVD SiN_x/a-Si積層保護膜の光学特性

*小山晃一, 寺嶋茂樹, 大平圭介, 松村英樹

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キーワード: 11a-C2-10, 非晶質・微結晶, シリコン系太陽電池, パッシベーション技術, パシベーション, ヘテロ接合太陽電池

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