二段階PLD法によるSi添加α-Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜の形成と電気・磁気特性の制御

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第76回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 14p-2H-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.2.0_1293

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 76

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2015/09/13 - 2015/09/16

二段階PLD法によるSi添加α-Fe₂O₃薄膜の形成と電気・磁気特性の制御

*関宗俊, 石田丈, 那須英和, Sathe Ameya, 村田哲也, 川辺駿佑, 山原弘靖, 田畑仁

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キーワード: 14p-2H-4, 薄膜・表面, 酸化物エレクトロニクス, エレクトロニクス機能探索, 酸化鉄, パルスレーザー堆積法

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