SiGeおよびGe基板に対する洗浄と表面処理

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第76回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13p-4C-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.2.0_161

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 76

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2015/09/13 - 2015/09/16

SiGeおよびGe基板に対する洗浄と表面処理

*高橋弘明, 和田昌之, 吉田幸史, Sebaai Farid, Holsteyns Frank, Mertens Paul, 佐藤雅伸, 白川元

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キーワード: 13p-4C-3, シンポジウム, Ge-CMOSはどこまで進んでいるのか, 洗浄, 表面処理, Ge

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