耐放射線性FEA撮像素子のための光電変換膜評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 21p-H137-17

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_1597

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

耐放射線性FEA撮像素子のための光電変換膜評価

*増澤智昭, 根尾陽一郎, 岡本保, 長尾昌善, 後藤康仁, 三村秀典

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キーワード: 21p-H137-17, ビーム応用, 電子ビーム応用, 電子ビーム応用・関連技術, 耐放射線, 電子源, 撮像素子

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