アンドープBaSi<sub>2</sub>蒸着膜へのポストアニール効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 21p-S223-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_2865

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

アンドープBaSi₂蒸着膜へのポストアニール効果

*須原貴道, 村田晃一, Navabi Aryan, Che Xiaoyu, 中川慶彦, 原康祐, 黒川康良, 末益崇, Wang Kang L., 宇佐美徳隆

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キーワード: 21p-S223-2, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, BaSi2, 蒸着膜, ポストアニール

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