応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第63回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 19a-S423-4
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

チャンバー密閉式ミニマル集光加熱炉を用いた薄い熱酸化膜形成
*三浦 典子, 山田 武史, 相澤 洸, 池田 伸一, 石田 夕起, 三ヶ原 孝則, 西里 洋, 梅山 規男, 大西 康弘, クンプアン ソマワン, 原 史朗
著者情報
キーワード: 19a-S423-4, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術, エピタキシャル成長／CVD／スパッタ, ミニマル, 熱酸化, 加熱炉
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© 2016 公益社団法人 応用物理学会
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