スパッタ成膜したアルミナ系絶縁膜/AlGaN界面のTEM観察

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 21p-W541-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_3125

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

スパッタ成膜したアルミナ系絶縁膜/AlGaN界面のTEM観察

*野崎幹人, 淺原亮平, 伊藤丈予, 渡邉健太, 山田高寛, 中澤敏志, 按田義治, 石田昌宏, 上田哲三, 細井卓治, 志村考功, 渡部平司

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キーワード: 21p-W541-2, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, 窒化物半導体各種デバイス，プロセス技術・評価, 窒化ガリウム, TEM

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