応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第63回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 22a-W541-8
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

高圧水蒸気処理を施したSiO2/GaN縦型MOSキャパシタの電気的特性評価
*冨永 雄太, 上野 勝典, 吉嗣 晃冶, 多田 雄貴, 石河 泰明, 浦岡 行治
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キーワード: 22a-W541-8, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, 窒化物半導体各種デバイス，プロセス技術・評価, 窒化ガリウム
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