ルチル型ReO<sub>2</sub>エピタキシャル薄膜の合成及び特性評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13a-D62-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_1408

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

ルチル型ReO₂エピタキシャル薄膜の合成及び特性評価

*柴田峻佑, 廣瀬靖, 重松圭, 中尾祥一郎, 近松彰, 池永英司, 長谷川哲也

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キーワード: 13a-D62-11, 薄膜・表面, 薄膜新材料, 新材料・新技術・評価手法など, 新規薄膜材料, ルチル型構造

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