Fe<sub>3</sub>Si/FeSi<sub>2</sub>人工格子膜における強磁性層間結合の温度依存性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 16a-P3-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_2666

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

Fe₃Si/FeSi₂人工格子膜における強磁性層間結合の温度依存性

*吉武剛, 竹市悟志, 花島隆泰, 宮田登, 堺研一郎, 出口博之

著者情報

キーワード: 16a-P3-3, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, 層間結合, 人工格子膜, 鉄シリサイド

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