MoO<sub>x</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>CBRAMの繰返しスイッチ過程におけるCu移動の直接観察

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第64回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 14a-419-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.1.0_1386

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 64

開催地: パシフィコ横浜

開催日: 2017/03/14 - 2017/03/17

MoO_x/Al₂O₃CBRAMの繰返しスイッチ過程におけるCu移動の直接観察

平田周一郎, *石川竜介, 福地厚, 有田正志, 高橋庸夫, 工藤昌輝, 松村晶

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キーワード: 14a-419-4, 薄膜・表面, 酸化物エレクトロニクス, 抵抗変化メモリ, 抵抗変化型メモリ, TEMその場観察

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