第64回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 17a-E206-8
会議情報
主催: 公益社団法人 応用物理学会
会議名: 応用物理学会春季学術講演会
回次: 64
開催地: パシフィコ横浜
開催日: 2017/03/14 - 2017/03/17
W薄膜の内部応力に対する残留F濃度の影響評価
キーワード:
17a-E206-8,
半導体,
Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術,
配線,電極プロセスと材料/導電膜/バリア膜/シード層,
タングステン,
化学気相成長法,
内部応力
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