Sn添加シリコン酸窒化膜のフォトルミネッセンス特性(膜厚依存性)

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第64回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 15p-411-8

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.1.0_3213

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 64

開催地: パシフィコ横浜

開催日: 2017/03/14 - 2017/03/17

Sn添加シリコン酸窒化膜のフォトルミネッセンス特性(膜厚依存性)

*古澤翔太, 中村駿介, 呉研, 高橋芳浩

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キーワード: 15p-411-8, 半導体, 光物性・発光デバイス, シリコン系, フォトルミネッセンス, 光CVD, SiON膜

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