(001)Si基板上HfO<sub>2</sub>系エピタキシャル薄膜の構造制御に向けた成長過程の観察

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第65回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 19p-C104-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.1.0_1412

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 65

開催地: 早稲田大学・ベルサール高田馬場

開催日: 2018/03/17 - 2018/03/20

(001)Si基板上HfO₂系エピタキシャル薄膜の構造制御に向けた成長過程の観察

*鎌田大輝, 高田賢志, 桐谷乃輔, 吉村武, 芦田淳, 藤村紀文

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キーワード: 19p-C104-3, 薄膜・表面, 強誘電体薄膜, 強誘電体・高誘電率薄膜, HfO2

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