応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第65回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 17p-F104-3
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 65

開催地: 早稲田大学・ベルサール高田馬場

開催日: 2018/03/17 - 2018/03/20

Ni/カルバゾールオリゴマー/Ni 単分子接合の磁気抵抗効果
*美濃出 圭悟, アルブレヒト 建, 大戸 達彦, 山田 亮, 山元 公寿, 夛田 博一
著者情報
キーワード: 17p-F104-3, 有機分子・バイオエレクトロニクス, 評価・基礎物性, 単一分子エレクトロニクス・フォトニクス, 単分子エレクトロニクス, スピントロニクス, 磁気抵抗効果
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© 2018 公益社団法人 応用物理学会
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