第65回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 17a-C101-11
会議情報
主催: 公益社団法人 応用物理学会
会議名: 応用物理学会春季学術講演会
回次: 65
開催地: 早稲田大学・ベルサール高田馬場
開催日: 2018/03/17 - 2018/03/20
イオン注入を用いた中空構造SOI層のピラー形状制御による高効率低温転写法
キーワード:
17a-C101-11,
半導体,
Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術,
TFT/Si/Ge etc./薄膜結晶化/レーザーアニール,
フレキシブルエレクトロニクス,
単結晶シリコン
詳細
記事の1ページ目
