応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第65回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 20p-C101-2
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 65

開催地: 早稲田大学・ベルサール高田馬場

開催日: 2018/03/17 - 2018/03/20

ミニマルCVD装置における製膜プロセス観察方法
室井 光子, 松尾 美弥, *羽深 等, 三ケ原 孝則, 池田 伸一, 石田 夕起, 原 史朗
著者情報
キーワード: 20p-C101-2, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術, エピタキシャル成長／CVD／スパッタ, ミニマルファブ, エピタキシャル成長, 成長過程
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© 2018 公益社団法人 応用物理学会
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