IrO<sub>x</sub>/PLZT/Pt強誘電体キャパシタにおける熱処理及びIrO<sub>x</sub>酸化度の最適化による分極特性向上と結晶化メカニズム解析

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 19p-133-10

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_1320

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

IrO_x/PLZT/Pt強誘電体キャパシタにおける熱処理及びIrO_x酸化度の最適化による分極特性向上と結晶化メカニズム解析

*野村健二, 王文生, 山口秀史, 中村亘, 恵下隆, 小澤聡一郎, 高井一章, 三原智, 彦坂幸信, 濱田誠, 児島学, 片岡祐治

著者情報

*野村健二
富士通研
王文生
富士通セミコンダクター
山口秀史
富士通研
中村亘
富士通セミコンダクター
恵下隆
富士通セミコンダクター
和歌山大
小澤聡一郎
富士通セミコンダクター
高井一章
富士通セミコンダクター
三原智
富士通セミコンダクター
彦坂幸信
富士通セミコンダクター
濱田誠
富士通セミコンダクター
児島学
富士通セミコンダクター
片岡祐治
富士通研

キーワード: 19p-133-10, 薄膜・表面, 強誘電体薄膜, 強誘電体・高誘電率薄膜, 強誘電体メモリ, IrOx/PLZT/Pt

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