応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第79回応用物理学会秋季学術講演会
セッションID: 20p-438-9
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

C2HxFy化合物の電子物性と解離(III)
*林 俊雄, 関根 誠, 石川 健治, 堀 勝
著者情報
キーワード: 20p-438-9, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・エッチング・表面処理, 絶縁膜のエッチング, SiNx エッチング, 水素化フロロエタン, 計算化学
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