紫外光照射および熱処理後のIGZO膜中の酸素空孔量

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 20a-231A-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_1867

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

紫外光照射および熱処理後のIGZO膜中の酸素空孔量

*高森悠圭, 森本貴明, 福田伸子, 大木義路

著者情報

キーワード: 20a-231A-2, 応用物性, 誘電材料・誘電体, 誘電性・圧電性・強誘電性, 溶液法, XPS, フォトルミネセンス

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