不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたMg<sub>2</sub>Si薄膜の合成と膜質評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 19a-436-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_2795

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたMg₂Si薄膜の合成と膜質評価

*堀場一成, 藤原道信, 中川慶彦, 後藤和泰, 黒川康良, 伊藤孝至, 宇佐美徳隆

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キーワード: 19a-436-2, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, マグネシウムシリサイド, 熱電材料

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