応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第79回応用物理学会秋季学術講演会
セッションID: 19a-233-10
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

Smart-Cut法を用いて作製したGe-on-Insulatorの極性変化
*仲江 航平, 薛 飛達, 山本 圭介, 王 冬, 中島 寛, Zhang Miao, Xue Zhongying, Di Zengfeng
著者情報
キーワード: 19a-233-10, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術, 平坦化/貼り合わせ, 半導体, GOI, スマートカット
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