グラフェンデバイス量産に向けたCVD単層グラフェンのSi/SiO<sub>2</sub>基板上への直接接合

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 20p-311-12

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_3694

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

グラフェンデバイス量産に向けたCVD単層グラフェンのSi/SiO₂基板上への直接接合

*嶋谷政彰, 奥田聡志, 福島昌一郎, 小川新平, 生田昂, 前橋兼三

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キーワード: 20p-311-12, ナノカーボン, グラフェン, デバイス応用, グラフェン, CVD, 転写

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