角度制御型マグネトロンスパッタリング装置を用いた酸化亜鉛薄膜の作製と成膜条件の検討

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 20p-234A-10

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_3826

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

角度制御型マグネトロンスパッタリング装置を用いた酸化亜鉛薄膜の作製と成膜条件の検討

*保坂拓己, 山形栄人, 大澤健男, Sergey Grachev, Herve Montigaud, 石垣隆正, 大橋直樹

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キーワード: 20p-234A-10, 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」, 薄膜成長, 酸化亜鉛, 薄膜

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