応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第66回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 12a-PB3-3
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 66

開催地: 東京工業大学 大岡山キャンパス

開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12

水素ラジカル加熱を用いたガラス基板上Poly-Si形成技術開発
*中家 大希, 斎藤 慎吾, 荒井 哲司, 上村 和貴, 有元 圭介, 原 康祐, 山中 淳二, 中川 清和, 高松 利行, 澤野 憲太郎
著者情報
キーワード: 12a-PB3-3, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術, TFT/Si/Ge etc./薄膜結晶化/レーザーアニール, ポリシリコン, 水素ラジカル
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© 2019 公益社団法人 応用物理学会
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