マスクを用いたイオン照射によって形成される格子欠陥の制御方法

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第66回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 11p-PA6-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.1.0_3308

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 66

開催地: 東京工業大学大岡山キャンパス

開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12

マスクを用いたイオン照射によって形成される格子欠陥の制御方法

*仲田有希, 八木孝秀, 曽我部正嗣

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キーワード: 11p-PA6-4, 結晶工学, 結晶評価，不純物・結晶欠陥, その他, 半導体, イオン照射, 格子欠陥

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