第66回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 12a-PA3-7
会議情報
主催: 公益社団法人 応用物理学会
会議名: 応用物理学会春季学術講演会
回次: 66
開催地: 東京工業大学 大岡山キャンパス
開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12
ミストCVD法における原料溶媒が薄膜成長に及ぼす影響
キーワード:
12a-PA3-7,
合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」,
合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」,
薄膜成長,
ミストCVD法,
酸化ガリウム,
TG-DTA
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