Al(CH₃)₃凝縮層の低速電子及び酸素ラジカル照射によるAl₂O₃薄膜の低温形成

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 20a-PA4-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.2.0_1856

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

Al(CH₃)₃凝縮層の低速電子及び酸素ラジカル照射によるAl₂O₃薄膜の低温形成

*大川敦輝, 山田大地, 大谷洋平, 佐藤哲也

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キーワード: 20a-PA4-6, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・エッチング・表面処理, 表面処理・表面改質・表面修飾, 金属酸化膜

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