首振り回転磁場下で作製した2軸配向ErBa<sub>2</sub>Cu<sub>3</sub>O<sub>7</sub>厚膜の配向度と磁場・スラリー条件の関係

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 19a-E201-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.2.0_2275

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

首振り回転磁場下で作製した2軸配向ErBa₂Cu₃O₇厚膜の配向度と磁場・スラリー条件の関係

*堀井滋, 野津乃祐, 柏木勇人, 木村史子, 土井俊哉

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キーワード: 19a-E201-6, スピントロニクス・マグネティクス, 磁場応用, 磁場配向, 三軸磁場配向

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