応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第80回応用物理学会秋季学術講演会
セッションID: 19p-PB3-17
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学 札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

GaN基板へのMgのチャネリングイオン注入
*西村 智朗, 池田 清次, 中村 徹, 加地 徹
著者情報
キーワード: 19p-PB3-17, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, III-V族半導体各種デバイス，プロセス技術・評価, 窒化ガリウム, イオン注入
会議録・要旨集 フリー

詳細
PDFをダウンロード (224K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
メタデータのダウンロード方法
発行機関連絡先
記事の1ページ目
著者関連情報
© 2019 公益社団法人 応用物理学会
前の記事 次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
このページを共有する
feedback
 Top