XAFS測定を用いた低温下におけるSi基板上SiGe薄膜の局所構造評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 19p-E313-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.2.0_3610

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

XAFS測定を用いた低温下におけるSi基板上SiGe薄膜の局所構造評価

*吉岡和俊, 横川凌, 高橋祐樹, 竹内悠希, 広沢一郎, 渡辺剛, 小椋厚志

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キーワード: 19p-E313-2, 結晶工学, IV族結晶，IV-IV族混晶, 結晶評価, SiGe, XAFS

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