第80回応用物理学会秋季学術講演会
セッションID: 20p-E311-15
会議情報
主催: 公益社団法人 応用物理学会
会議名: 応用物理学会秋季学術講演会
回次: 80
開催地: 北海道大学 札幌キャンパス
開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21
4H-SiC中の窒素・空孔複合欠陥の形成における窒素不純物濃度の影響
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主催: 公益社団法人 応用物理学会
会議名: 応用物理学会秋季学術講演会
回次: 80
開催地: 北海道大学 札幌キャンパス
開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21
