不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたクラックフリーMg<sub>2</sub>Si厚膜の合成

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第67回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 14a-A202-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_2608

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 67

開催地: 上智大学四谷キャンパス

開催日: 2020/03/12 - 2020/03/15

不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたクラックフリーMg₂Si厚膜の合成

堀場一成, 後藤和泰, *黒川康良, 伊藤孝至, 宇佐美徳隆

著者情報

キーワード: 14a-A202-3, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, シリサイド, 熱電発電材料, 環境発電

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2020 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top