高純度オゾン及びエチレンとTMAによる低温ALD成膜のXPS分析

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第67回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 15a-A305-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_2642

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 67

開催地: 上智大学四谷キャンパス

開催日: 2020/03/12 - 2020/03/15

高純度オゾン及びエチレンとTMAによる低温ALD成膜のXPS分析

*萩原崇之, 阿部綾香, 亀田直人, 三浦敏徳, 森川良樹, 花倉満, 中村健, 野中秀彦

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キーワード: 15a-A305-4, 半導体, 絶縁膜技術, 成膜手法／評価手法, 低温ＡＬＤ, 高純度オゾン, 絶縁膜

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