応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第67回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 13p-PA9-11
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 67

開催地: 上智大学 四谷キャンパス

開催日: 2020/03/12 - 2020/03/15

電気化学的手法を用いたICP-RIE加工n-GaN表面の評価
武田 健太郎, 山田 真嗣, 渡久地 政周, 加地 徹, *佐藤 威友
著者情報
キーワード: 13p-PA9-11, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, 窒化物半導体各種デバイス，プロセス技術・評価, 窒化ガリウム, 電気化学的評価, ICP-RIE
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