応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
The 81st JSAP Autumn Meeting 2020
セッションID: 11a-Z03-4
会議情報

主催: The Japan Society of Applied Physics

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 81

開催地: オンライン開催

開催日: 2020/09/08 - 2020/09/11

Influence of temperature on etch rate of PECVD-SiN films with CF4/H2 plasma
*Shihnan Hsiao, Kazuya Nakane, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
著者情報
キーワード: 11a-Z03-4, Plasma Electronics English Session, PECVD SiN film, substrate temperature, bonding structure
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