陽極酸化法によるSi(110)面上のSiマイクロワイヤの作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第81回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 10p-Z10-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2020.2.0_1825

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 81

開催地: オンライン開催

開催日: 2020/09/08 - 2020/09/11

陽極酸化法によるSi(110)面上のSiマイクロワイヤの作製

*栗城澪, 王鶴, 三平智宏, 鈴木俊明, 吉野隆幸, 丹羽雅昭, 本橋光也

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キーワード: 10p-Z10-6, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術, ナノプロセス, シリコンワイヤ, 転位, 陽極酸化

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