エピタキシャルGeナノドット含有SiGe薄膜における熱伝導率低減機構の解明

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第81回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 8p-Z09-13

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2020.2.0_2402

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 81

開催地: オンライン開催

開催日: 2020/09/08 - 2020/09/11

エピタキシャルGeナノドット含有SiGe薄膜における熱伝導率低減機構の解明

*谷口達彦, 石部貴史, 中村芳明

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キーワード: 8p-Z09-13, 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」, ナノスケール・低次元系, 熱伝導率, ナノドット, SiGe

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