RFスパッタ成長時の基板温度がガラス基板上BaSi<sub>2</sub>膜の特性に与える影響

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 16a-Z23-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2250

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

RFスパッタ成長時の基板温度がガラス基板上BaSi₂膜の特性に与える影響

*小板橋嶺太, 根本泰良, 召田雅美, 都甲薫, 末益崇

著者情報

キーワード: 16a-Z23-1, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, BaSi2, スパッタリング法, シリサイド半導体

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2021 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top