ミニマルAlN反応性スパッタ装置の成膜特性 (2)

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 19a-Z24-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2311

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

ミニマルAlN反応性スパッタ装置の成膜特性 (2)

*野田周一, 薮田勇気, 山本直子, 亀井龍一郎, クンプアンソマワン, 原史朗

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キーワード: 19a-Z24-2, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術, エピタキシャル成長／CVD／スパッタ, AlN, 反応性スパッタ, ミニマルファブ

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