SiC膜脱離を活用したSiCエピ成長装置の短時間クリーニング

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 17a-Z28-8

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2668

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

SiC膜脱離を活用したSiCエピ成長装置の短時間クリーニング

間明田巧, 林優也, *羽深等, 石黒暁夫, 石井成明, 醍醐佳明, 伊藤英樹, 水島一郎, 高橋至直

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キーワード: 17a-Z28-8, 結晶工学, IV族系化合物（SiC）, エピ／薄膜, 炭化ケイ素CVD, クリーニング, 三フッ化塩素

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