Bi2223材料の高磁場応用に向けた化学組成制御

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第82回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 12a-N402-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.2.0_2003

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 82

開催地: ハイブリッド開催（名城大学＆オンライン）

開催日: 2021/09/10 - 2021/09/23

Bi2223材料の高磁場応用に向けた化学組成制御

*宮本能伸, 元木貴則, 武田宗一郎, 中島隆芳, 山出哲, 下山淳一

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キーワード: 12a-N402-3, 超伝導, 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長, Bi系，Tl系，Hg系薄膜, 超伝導体, ビスマス系

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