RFマグネトロン共スパッタリング法によるSiC添加SiO<sub>x</sub>系薄膜の作製と光吸収および発光スペクトルの評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第69回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 24p-F408-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2022.1.0_1560

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 69

開催地: ハイブリッド開催（青山学院大学＋オンライン）

開催日: 2022/03/22 - 2022/03/26

RFマグネトロン共スパッタリング法によるSiC添加SiO_x系薄膜の作製と光吸収および発光スペクトルの評価

*中村昂雅, 小野恒義, 勝俣裕

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キーワード: 24p-F408-4, 応用物性, ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシート, ナノ粒子, 量子サイズ効果, ナノ粒子, バンドギャップ

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