「核生成層」の導入による固相成長 Ge 薄膜の高品質化

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第69回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 25a-D114-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2022.1.0_2744

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 69

開催地: ハイブリッド開催（青山学院大学＋オンライン）

開催日: 2022/03/22 - 2022/03/26

「核生成層」の導入による固相成長 Ge 薄膜の高品質化

*前田真太郎, 石山隆光, 今城利文, 末益崇, 都甲薫

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キーワード: 25a-D114-3, 結晶工学, IV族結晶，IV-IV族混晶, 結晶成長, ゲルマニウム, 薄膜, 固相成長

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