熱工学コンファレンス講演論文集
Online ISSN : 2424-290X
セッションID: G212
会議情報
G212 非平衡プラズマCVDに於けるガス流速がSi成膜速度に及ぼす影響の解析(OS-17: プラズマ革新技術の展開(1))
松岡 一樹, 岡本 直樹, 安藤 大輔, 中村 次郎, 西田 哲, 牟田 浩司, 栗林 志頭眞
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