熱工学コンファレンス講演論文集
Online ISSN : 2424-290X
セッションID: H112
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H112 マイクロプロセッサにおけるホットスポット温度非定常挙動のモデル化(OS-3:電子機器・デバイスの熱課題(1))
西 剛伺畠山 友行中川 慎二石塚 勝
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抄録
This paper investigates transient temperature behavior at microprocessor silicon die hot spot. The thermal local resistance is defined as a part of one-dimensional thermal network and is utilized to express microprocessor silicon die hot spot temperature. Transient thermal local resistance is modeled and is evaluated based on and compared to three-dimensional heat conduction simulation result.
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© 2013 一般社団法人 日本機械学会
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