日本表面真空学会学術講演会要旨集
Online ISSN : 2434-8589
2019年日本表面真空学会学術講演会
セッションID: 1Ca01
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10月28日(月)
表面偏析によって媒介された異常なグラフェン成長
*藤田 大介鈴木 雅彦山内 泰鷺坂 恵介石田 暢之大西 桂子
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抄録

単層グラフェン(SLG)成長に対するCと界面活性元素間の競合的表面サイト占有に焦点を当てる。Sは典型的界面活性元素であり、表面偏析によって最終的にSによって表面サイトは占められる。 Ni(110)の場合、SAM、LEEM、STM等により、c(2x2)-S 超構造を示すことを確認した。Cドープの場合、基板方位と相関する矩形を示すSLGの異方性成長を発見した。表面偏析が介在する成長機構について議論する。

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© 2019 公益社団法人 日本表面真空学会
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